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电子束蒸发镀膜系统

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谈球吧体育综合用途：

本谈球吧体育综合用于制备各类高熔点金属膜、介质膜、化合物膜、导电薄膜、铁电薄膜、光学薄膜等，广泛应用于大专院校、科研机构对薄膜材料的科研及小批量制备。

主要技术指标
真空指标	极限真空度：≤5x10-5Pa (经烘烤除气后)；系统真空检漏漏率：≤5.0x10-7 Pa.l/S；系统短时间暴露大气并充干燥氮气后，再开始抽气，40分钟可达到6x10-4 Pa；停泵关机12小时后真空度：≤5Pa；
真空室	圆筒型真空室电动上升盖结构，上面焊有观察窗，放气阀、膜厚仪等法兰接口。选用优质不锈钢材料制造，氩弧焊接，表面特殊工艺处理。内壁挂防污板。
样品	基片尺寸：可放置Φ30mm基片；同时可以安放6片；加热工位基片加热最高温度 500°C±1°C，由热电偶闭环反馈控；基片可以加负偏压-200V；
溅射离子源（考夫曼源）	引出栅直径：Φ30mm；
辅助沉积离子源（考夫曼源）	引出栅直径：Φ30mm；；
真空获得及测量	分子泵+机械泵，数显复合真空计（皮拉尼规+电离规）
四工位转靶组件	靶材尺寸为：70×70mm；转靶通水冷却，靶材平面与溅射离子枪呈45°；转靶由步进电机驱动，计算机控制转靶转动到不同的四个工位；转靶配有一个筒形挡板，由手动机械转轴驱动；
气路	三路进气；气体质量流量控制器。
控制系统	手动或自动
工作压力控制系统	手动或自动
水冷机组	可选
进样室	可选

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