PLD激光镀膜系统
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谈球吧体育综合用途：
用于制备超导薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、超硬薄膜等；
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主要技术指标
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真空指标
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极限真空度：≤6.67x10-6 Pa (经烘烤除气后)；
系统真空检漏漏率：≤5.0x10-7 Pa.l/S；
系统短时间暴露大气并充干燥氮气后，再开始抽气，20分钟可达到5x10-3 Pa；
激光入射口到地面的距离为1200mm；
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真空室
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球型真空室尺寸Ф450mm，选用优质不锈钢材料制造，氩弧焊接，表面进行特殊工艺抛光处理，接口采用金属垫圈密封或氟橡胶圈密封；
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旋转靶台组件
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每次可以装四块靶材，靶材尺寸：Φ60mm和Φ25mm；
每块靶材可实现自转，转速5～60转/分，连续可调，由电机驱动磁力耦合机构控制；靶位公转换位机构，由电机驱动磁耦合机构控制；靶材屏蔽罩将4块靶材屏蔽，每次只有一个靶材露出溅射成膜，以避免靶材之间的交叉污染；
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抗氧化基片加热台
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基片尺寸：可放置φ2″基片；基片加热最高温度 1000℃±1℃，由热电偶闭环反馈控制，采用抗氧化材料（SIC）作加热器；
基片可连续回转，转速5～60转/分，电机驱动磁耦合机构控制；
基片与靶台之间距离30～90mm可调，由腔外手动波纹管调节机构控制
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激光束扫描控制系统
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电动
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真空获得及测量
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分子泵+机械泵，数显复合真空计（皮拉尼规+电离规）
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气路
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一路进气；气体质量流量控制器。
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控制系统
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手动或自动
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RHEED
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可选，电子加速电压：0-30KV
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水冷机组
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可选
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准分子激光器
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可选，波长： 248nm;频率： 20HZ;脉冲能量： 400 m」
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质谱仪
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可选，1-100质量数
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进样室
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可选
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工信部网站备案：辽ICP备12007173号-1 公司地址：沈阳市大东区联合路252号
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